晶瑞电材(SZ300655) 光刻胶行业梳理:重点关注已有g/i线及KrF量产基础,正向ArF/EUV延伸的企业。
在PCB领域,光刻胶用于线路图形转移、阻焊防护等,干膜光刻胶、湿膜光刻胶、光成像阻焊油墨是主要类型,产量大、单价低,对成本敏感,但在高多层板、高密度互连板中对分辨率要求提高。在显示面板领域,光刻胶应用于TFT阵列制程、彩色滤光片、黑矩阵、触摸电极形成等,TFT-LCD光刻胶、彩色光刻胶、黑色光刻胶、触摸屏光刻胶是关键材料,对色纯度、遮光性、透过率及热稳定性要求高,是面板材料中价值量较高的环节之一。在半导体领域,光刻胶用于前道晶圆制造各层图形转移及先进封装中的厚膜光刻,g线、i线、KrF、ArF(干式、浸没式)、EUV等是主要类型,技术门槛极高,对分辨率、线宽粗糙度、残胶、抗刻蚀性、缺陷水平有严格要求。
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