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捷佳伟创取得一种基片校正结构及激光诱导烧结系统专利,可从四个方向上实现同步高精度规整目标基片

时间:2025年11月28日 09:06

本文源自:市场资讯

国家知识产权局信息显示,深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司取得一项名为“一种基片校正结构及应用其的激光诱导烧结系统”的专利,授权公告号CN223598693U,申请日期为2024年11月。

专利摘要显示,本实用新型提供一种基片校正结构及应用其的激光诱导烧结系统,其中基片校正结构包括底座;驱动装置,驱动主动轮正反转;四个导向结构,环绕于底座顶部并指向主动轮;线性运动件,安装于导向结构;传动连杆,两端分别铰接于主动轮象限点和对应线性运动件;摆动引导机构,连接于线性运动件;连接摆臂,连接于摆动引导机构;活动支架,安装于连接摆臂,设有校正滚轮;载料装置,设于四个活动支架间,承载目标基片;主动轮正反转时驱动四个线性运动件同步向心或离心运动连接摆臂绕第一转轴上下摆动、第二转轴沿弧形导槽往复运动,带动校正滚轮靠近或远离目标基片翻转。其行程可控且机构运行过程不卡顿、可从四个方向上实现同步高精度规整目标基片。

天眼查资料显示,深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司,成立于2007年,位于深圳市,是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本34771.3586万人民币。通过天眼查大数据分析,深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司共对外投资了16家企业,参与招投标项目93次,财产线索方面有商标信息11条,专利信息534条,此外企业还拥有行政许可71个。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

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