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鼎龙股份:CMP抛光材料、高端晶圆光刻胶等产品可应用于存储芯片制造

时间:2025年11月28日 14:26

本文源自:市场资讯

有投资者在互动平台向鼎龙股份提问:“你好,请问公司哪些产品能应用在存储芯片制造?是否已切入或者未来有计划切入长江、长鑫的存储生产线?谢谢!”

针对上述提问,鼎龙股份回应称:“尊敬的投资者,您好,感谢您对公司的关注与提问。鼎龙股份作为国内领先的关键大赛道核心创新材料平台型企业,布局了多款可应用于存储芯片制造的产品:CMP 抛光材料,如CMP 抛光垫、抛光液及清洗液是晶圆制造的核心耗材,直接应用于存储芯片的制造流程;高端晶圆光刻胶,作为晶圆制造的关键材料,公司布局的近30款高端晶圆光刻胶可应用于存储芯片制造环节,目前超15款产品已送样验证;先进封装材料,半导体封装PI可应用于凸块(Bumping)和重布线层(RDL)工艺,临时键合胶用于超薄晶圆减薄工艺,这两类产品均能适配存储芯片的先进封装环节。 公司作为国内领先的半导体材料企业,我们的核心产品已在国内多家主流晶圆制造厂商中获得应用并稳定量产供应。对于涉及客户的合作情况,基于商业保密原则,公司不便对此进行单方面确认与评论。再次感谢您的关注!”

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

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