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国家知识产权局信息显示，沈阳芯源微电子设备股份有限公司申请一项名为“控制光刻胶过滤循环次数的方法及打胶系统”的专利，公开号CN121017042A，申请日期为2024年5月。

专利摘要显示，本发明提供了一种控制光刻胶过滤循环次数的方法及打胶系统，包括：步骤S0：判断第一胶泵的容积V1和第二胶泵的容积V2是否相等，得到判断结果；步骤S1：根据判断结果，选取第一不等式用于计算第二胶泵内剩余光刻胶量是否小于V2×K％，得到第一计算结果；步骤S2：根据第一计算结果，选择第二不等式用于计算第二胶泵的打胶次数N；步骤S3：在进行N次打胶后，将第二胶泵内剩余的光刻胶返回至第一胶泵，由第一胶泵送至过滤器进行过滤；其中，i为自然数且1≤i≤10；K％为设定打胶量与实际打胶量的差值占V2的百分比；N为自然数且1≤N≤100。通过控制剩余光刻胶过滤频率，使其有较高清洁度的同时，降低光刻胶过滤后变质的概率，保证正常涂敷。

天眼查资料显示，沈阳芯源微电子设备股份有限公司，成立于2002年，位于沈阳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本20113.8646万人民币。通过天眼查大数据分析，沈阳芯源微电子设备股份有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目326次，财产线索方面有商标信息32条，专利信息633条，此外企业还拥有行政许可65个。

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