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中微半导体申请一种真空处理设备专利,提高抽真空效率

时间:2025年12月04日 08:26

本文源自:市场资讯

国家知识产权局信息显示,中微半导体设备(上海)股份有限公司申请一项名为“一种真空处理设备”的专利,公开号CN121046781A,申请日期为2024年5月。专利摘要显示,本发明公开一种真空处理设备,包括至少两个处理腔,至少两个处理腔共用一套真空系统,所述真空系统包括一真空泵,所述真空泵具有一真空泵口,每个所述处理腔在第一方向上的投影分别与所述真空泵口截面至少部分重合,且重合区域沿所述第一方向上存在贯通气路。节省成本的同时提高抽真空效率。

天眼查资料显示,中微半导体设备(上海)股份有限公司,成立于2004年,位于上海市,是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本62614.5307万人民币。通过天眼查大数据分析,中微半导体设备(上海)股份有限公司共对外投资了30家企业,参与招投标项目71次,财产线索方面有商标信息76条,专利信息1595条,此外企业还拥有行政许可77个。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

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