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国力电子:公司的真空电容器产品应用于等离子体刻蚀、增强气相沉积、气相清洗等设备

时间:2026年03月02日 21:37

  证券日报网讯 3月2日,国力电子在互动平台回答投资者提问时表示,在半导体应用领域,公司的真空电容器产品主要竞争对手确实包括日本企业,具体为株式会社明电舍(日本明电舍股份有限公司)。公司的真空电容器产品应用于等离子体刻蚀、增强气相沉积、气相清洗等设备。

(文章来源:证券日报)

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