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美迪凯:光刻用掩模版衬底完成工艺开发并逐步向客户送样

时间:2026年01月19日 16:11

投资者提问:

请问贵司关于“光刻用掩模版衬底的认证”的进展,谢谢!

董秘回答(美迪凯SH688079):

尊敬的投资者,您好。关于光刻用掩模版衬底,公司已完成了其整套生产工艺的开发,并已开始逐步向客户送样,我们将持续推动相关工作的进行。感谢您的关注与支持!

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